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표면처리사업

Anodizing Thermal Spray Ultrasonic

와이엠씨(주)는 반도체 및 디스플레이 공정의 Plasma Chamber에 사용되는 진공설비 부품 신규제작과 재생을 통한 아노다이징, 세정, 용사코팅을 통해 Particle감소 및 공정분위기안정, 제품Recycle수명연장, 수율 및 생산성 향상을 실현하고 있습니다.
또한 고도화되는 Device 수준에 맞추기 위해, SEM, EDX, Vision 등 다양한 계측 인프라를 구축, 고객의 Needs를 실현하고 있습니다.

아노다이징

  • 황산법

    내마모성, 경도 우수

  • 혼산법

    내식성 특화

  • 수산법

    내열성 특화

Thickness

고객 요구 수준에 맞는 다양한 코팅 두께 구현가능

설비

디스플레이 8.6G Size까지 대응가능

Infra

전처리 Bath 8대, Rinse 11대, 아노다이징 Bath 9대, Sealing Bath 1대 운영

  • - Diffuser -

  • - Susceptor -

  • - Chamber Liner -

용사

  • AI203

    ESC Coating

  • Y203

    반도체, 디스플레이용 Coating

  • YAG

    반도체, 디스플레이용 Coating

Thickness

고객 요구 수준에 맞는 다양한 코팅 두께 구현가능

설비

디스플레이 8.6G Size까지 대응가능

Infra

용사 Booth 8대, 진공챔버 4대, 연마기 3대 등

  • - Ceramic -

  • - ESC -